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            當前位置:網站首頁 〉CMP拋光液
            cmp拋光液驗證平臺
            新創納公司擁有非常完備的拋光液驗證設備,在拋光液的開發研究中起著至關重要的作用,這些設備能夠滿足各種尺寸、材質襯底材料的拋光液制成驗證?!?/div>
            恭喜新安納公司再次入圍全球CMP拋光液材料供應商名錄
            恭喜上海新安納(浙江新創納)電子科技有限公司再次入圍全球CMP拋光液材料供應商名錄…
            什么是CMP化學機械拋光
            化學機械拋光通常稱為?CMP (Chemical Mechanical Polishing),在整個拋光過程中,機械拋光和化學腐蝕同時起作用,拋光作用部分是機械研磨的,部分是化學腐蝕的?;瘜W作用腐蝕晶圓表面,然后通過拋光設備向被拋元件施加機械壓力,機械研磨帶走腐蝕的表面材料,從而提高材料去除率?!?/div>
            祝賀公司獲集成電路納米拋光材料創業團隊表彰
            浙江新創納電子科技有限公司獲得海寧市年度創新創業團隊表彰,這是繼去年獲得浙江省優秀創業團隊后又一次獲得海寧市政府的表彰?!?/div>
            CMP是半導體拋光材料和芯片平坦化的必經之路
            CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing,化學機械拋光,是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一?!?/div>
            集成電路拋光液廢液處理在半導體產業化學機械研磨制程中面臨重要考驗
            「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司研發生產的集成電路拋光液,經歷了多代升級,目前已經用于多家半導體公司?!?/div>
            CMP拋光液為什么越來越受到歡迎
            「上海新安納」浙江新創納是一家專注于研發高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產和銷售公司,在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發明專利兩百余項,廣泛應用于半導體、拋光等行業,年產能一萬多噸?!?/div>
            碳化硅(SiC)拋光液
            「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司開發了系列碳化硅晶圓(SiC Wafer)拋光液,既開發了碳化硅粗拋液也開發了碳化硅精拋液,主要應用在不同尺寸高純半絕緣體4H-SiC,N型4H-SiC等晶圓拋光?!?/div>
            藍寶石背面減薄拋光液
            「上海新安納」針對LED藍寶石背面減薄拋光專門設計了LED芯片背面減薄拋光液,該系列拋光液主要用于在藍寶石襯底的研磨和背面減薄?!?/div>
            不銹鋼拋光液
            上海新安納電子科技有限公司「浙江新創納」生產的SS不銹鋼系列拋光液針對手機、電腦、平板電腦等移動終端設備不銹鋼工件的拋光設計而成,適用于拋光304型、316型和316L型等不同型號的不銹鋼材質,主要用于不銹鋼的精拋工序?!?/div>

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