CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing,化學機械拋光,是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一?!?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司研發生產的集成電路拋光液,經歷了多代升級,目前已經用于多家半導體公司?!?/div>
「上海新安納」浙江新創納是一家專注于研發高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產和銷售公司,在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發明專利兩百余項,廣泛應用于半導體、拋光等行業,年產能一萬多噸?!?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司專注于研發銷售高端硅溶膠,常年提供改性硅溶膠、55%高濃度高固含硅溶膠、催化用硅溶膠、高純硅溶膠等產品,硅溶膠的研發項目由一支高素質、高學歷、具有創新精神的團隊不斷完善發展,至今已申請并獲得了數項發明專利,品質值得信賴,是很好的選擇?!?/div>
要制備高濃度低粘度的穩定硅溶膠,我的體會是一定要擴大硅溶膠的粒徑,否則SiO2含量到26%以上就要凝膠?!?/div>
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