CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing，化學機械拋光，是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司研發生產的集成電路拋光液，經歷了多代升級，目前已經用于多家半導體公司?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納是一家專注于研發高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產和銷售公司，在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發明專利兩百余項，廣泛應用于半導體、拋光等行業，年產能一萬多噸?！?/div>
「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司專注于研發銷售高端硅溶膠，常年提供改性硅溶膠、55%高濃度高固含硅溶膠、催化用硅溶膠、高純硅溶膠等產品，硅溶膠的研發項目由一支高素質、高學歷、具有創新精神的團隊不斷完善發展，至今已申請并獲得了數項發明專利，品質值得信賴，是很好的選擇?！?/div>
要制備高濃度低粘度的穩定硅溶膠，我的體會是一定要擴大硅溶膠的粒徑，否則SiO2含量到26%以上就要凝膠?！?/div>
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