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            新聞動態

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            CMP是半導體拋光材料和芯片平坦化的必經之路
            CMP全稱為Chemical Mechanical Polishing,化學機械拋光,是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一?!?/div>
            集成電路拋光液廢液處理在半導體產業化學機械研磨制程中面臨重要考驗
            「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司研發生產的集成電路拋光液,經歷了多代升級,目前已經用于多家半導體公司?!?/div>
            CMP拋光液為什么越來越受到歡迎
            「上海新安納」浙江新創納是一家專注于研發高端硅溶膠、CMP拋光液及其生產和銷售公司,在CMP拋光液和拋光技術方面已申請并獲得發明專利兩百余項,廣泛應用于半導體、拋光等行業,年產能一萬多噸?!?/div>
            硅溶膠為什么好
            「上海新安納」浙江新創納電子科技有限公司專注于研發銷售高端硅溶膠,常年提供改性硅溶膠、55%高濃度高固含硅溶膠、催化用硅溶膠、高純硅溶膠等產品,硅溶膠的研發項目由一支高素質、高學歷、具有創新精神的團隊不斷完善發展,至今已申請并獲得了數項發明專利,品質值得信賴,是很好的選擇?!?/div>
            高濃度低粘度硅溶膠如何維持其穩定性
            要制備高濃度低粘度的穩定硅溶膠,我的體會是一定要擴大硅溶膠的粒徑,否則SiO2含量到26%以上就要凝膠?!?/div>
            硅溶膠的定義、分類、性能和用途
            硅溶膠又稱硅溶液、膠體二氧化硅、納米二氧化硅溶膠等,是一種常用化工原材料。它的主要存在形態是納米二氧化硅顆粒均勻分散在水溶液中?!?/div>

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